网站首页 > 新闻聚焦 > 企业动态

友芝友双特异性抗体专利获得日本授权

2019-09-23 14:36:29 武汉光谷生物医药产业园 阅读


近日,武汉友芝友生物制药有限公司核心双特异性抗体平台技术专利BISPECIFIC ANTIBODY(申请号:PCT/CN2012/ 084982)在日本获得授权(专利号:JP6571527,授权日期2019年9月4日)。

武汉友芝友生物制药有限公司自主开发的双特异性抗体基因工程构建和制备技术(BISPECIFIC ANTIBODY)目前已经获得美国和日本全面的平台性专利保护,在中国、加拿大和欧洲等区域的专利申请正处于审查中。通过该专利技术,友芝友成功研制一系列双特异性抗体产品,其中“抗HER2×CD3双特异性抗体”和“抗EpCAM×CD3双特异性抗体”于2014年和2015年先后获得了国家十二五重大新药创制专项的支持,目前临床一期研究进展顺利,在获得安全性和初步疗效的良好数据后,我司已启动“抗HER2×CD3双特异性抗体”和“抗EpCAM×CD3双特异性抗体”在美国的临床研究,其中“抗HER2×CD3双特异性抗体”于2019年8月已经获得美国FDA的临床批准。

友芝友生物制药公司秉承“溯源生命、解密肿瘤” 的理念,自主创新研制新技术、新靶点、新产品,大力推动肿瘤药物开发,捍卫人类健康!此次专利授权后,公司将在日本获得通过CD3靶向免疫T细胞以及同时靶向乳腺癌、肺癌、肝癌、白血病等共35个常见肿瘤治疗靶点的双特异性抗体基因工程构建和制备技术的保护。


关于我们  |  新闻聚焦  |  招商引资  |  优惠政策  |  企业服务  |  资料下载  |  人才专栏  |  联系方式  |  在线论坛

版权所有©武汉光谷生物医药产业园 地址:武汉东湖高新区高新二路388号生物医药展示中心 电话:027-87001625、87001626 传真:027-87001617

技术支持:武汉网站建设      鄂ICP备19013032号